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Placa de onda de orden cero espaciada por aire de 193 nm

HOGAR Polarizadores VUV personalizados para láser a 193 nm

Placa de onda de orden cero espaciada por aire de 193 nm

placa de onda ultravioleta profunda
Placa de onda de orden cero espaciada por aire de 193 nm

Placa de onda de orden cero con espacio de aire de 193 nm, sin capas adhesivas, con gran estabilidad estructural y propiedades antienvejecimiento. El cuarzo resiste la corrosión UV profunda y es apto para el funcionamiento continuo de láseres de alta potencia, con un control de polarización constante.

Características:

Espaciado por aire

Espesor 0,3~1,5 mm

Alto umbral de daño

Recubierto y montado con AR

  • Número de artículo :

    WPA-193nm
  • Origen del producto :

    FuZhou
NUEVOS PRODUCTOS

Presupuesto:

Material:
Cuarzo
Tolerancia de diámetro:
+0,0, -0,1 mm
Distorsión del frente de onda:
λ/8 a 632,8 nm
Tolerancia al retraso:
λ/50
Paralelismo:
<1 segundo de arco
Calidad de la superficie:
20/10
Apertura clara:
>80%
Revestimiento:
S1 y S2: R<0,2% a longitud de onda
Longitud de onda estándar:
193 nm

Productos estándar:

Placas de media onda P/N#
Placas de cuarto de onda P/N#
Diámetro (mm)
WPA-210-193
WPA-410-193
10.0
WPA-212-193
WPA-412-193
12.7
WPA-215-193
WPA-415-193
15.0
WPA-220-193
WPA-420-193
20.0
WPA-225-193
WPA-425-193
25.4
WPA-230-193
WPA-430-193
30.0
WPA-235-193
WPA-435-193
35.0
WPA-250-193
WPA-450-193
50.0

Ventajas técnicas de la placa de onda de orden cero espaciada por aire de 193 nm:

La placa de onda con entrehierro de 193 nm utiliza una estructura de cuarzo dual con entrehierro, lo que reduce considerablemente la pérdida por absorción de material y ofrece una excelente transmitancia en bandas UV profundas, como los láseres excimer ArF. Su diseño con entrehierro evita la tensión térmica por adhesión, lo que garantiza un funcionamiento a largo plazo del láser de alta potencia. Gracias al acabado por haz de iones, logra una planitud superficial a escala nanométrica, lo que reduce significativamente la pérdida por dispersión y optimiza la calidad del frente de onda, ideal para un control de polarización de alta precisión en litografía.

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