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Polarizadores Glan Taylor de 193 nm

HOGAR Polarizadores VUV personalizados para láser a 193 nm

Polarizadores Glan Taylor de 193 nm

transmisión ultravioleta profunda
Polarizadores Glan Taylor de 193 nm

Polarizador Glan-Taylor de 193 nm Utiliza cristales birrefringentes α-BBO separados por un espacio de aire para eliminar los problemas de absorción de los materiales adhesivos en el rango UV profundo. Los recubrimientos antirreflectantes monocapa de MgF₂ garantizan una alta transmisión a 193 nm, manteniendo un excelente rendimiento de extinción. Diseñado con un alto umbral de daño láser, es ideal para el control de polarización de alta precisión en aplicaciones como la litografía láser excimer ArF y el procesamiento láser UV profundo.

 

Características:

Espaciado por aire

Cerca de Brewster's Angle Cutting

Alta pureza de polarización

Transmisión ultravioleta profunda

 

  • Número de artículo :

    GTP-193
  • Origen del producto :

    FuZhou
NUEVOS PRODUCTOS

Presupuesto:

Material: Materiales ultravioleta profundos
Rango de longitud de onda: 193,368 nm
Tasa de extinción: <1x10-4
Paralelismo: <1 arco mínimo
Calidad de la superficie: 20/10
Desviación del haz: < 3 minutos de arco
Distorsión de frente de onda: 1/4 a 632,8 nm
Umbral de daño: >200 MW/cm2

 

Polarizador Glan Taylor de 193 nm

N.º de pieza Rango de longitud de onda (nm) Tasa de extinción Campo angular (°) CA fa(mm) Diámetro exterior fd(mm) L ±0,1 (mm)
GTP4006 193.368 <5x10-6 >6.0 5.0 25.4 13.0
GTP4008 6.5 25.4 14.0
GTP4010 8.0 25.4 16.0
GTP4013 10.0 25.4 20.0
GTP4015 12.0 30.0 23.0
GTP4020 18.0 38.1 28.0
GTP4025 22.0 50.8 33.0

 

Las ventajas técnicas de Polarizador Glan-Taylor de 193 nm

El polarizador Glan-Taylor de 193 nm está fabricado con materiales compatibles con UV profundo, con una absorción ultrabaja y una excelente transmitancia a 193 nm, manteniendo la dirección de polarización con precisión. Su diseño de entrehierro evita la interferencia de la absorción de los adhesivos en UV profundo, junto con recubrimientos antirreflectantes específicos para reducir la pérdida de reflexión, ideal para escenarios de láser UV profundo de alta potencia.

 

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